Hoogwaardige slurries voor schaalbare productie van atomair gladde en defectvrije SiC-wafels (siliciumcarbide) Specifiek ontworpen voor het leppen of mechanisch polijsten van SiC-wafels met Si-face, C-face en enkelvoudige of polykristallijne oppervlakken Geoptimaliseerde oplossingen voor batch- en enkelvoudige -wafer CMP-systemen die verbeterde eigendomskosten bieden, Slurries bevatten geavanceerde additieven die een ultrahoge polijstsnelheid bieden, tot 10 keer sneller dan bestaande processen, met behoud van uniformiteit en geen schade aan de ondergrond