Lodos de alto rendimiento para la fabricación escalable de obleas de SiC (carburo de silicio) atómicamente uniformes y libres de defectos, Diseñadas específicamente para lapear o pulir mecánicamente obleas de SiC con cara Si, cara C y superficies monocristalinas o policristalinas, Soluciones optimizadas para lotes y -Sistemas CMP de obleas que brindan un costo de propiedad mejorado. Las lechadas incluyen aditivos avanzados que brindan una tasa de pulido ultra alta, hasta 10 veces más rápida que los procesos existentes, al tiempo que mantienen la uniformidad y no dañan la superficie.